點(diǎn)擊圖片查看原圖
溶劑脫蠟廠加工工藝流程同原料影響{一}、酮苯脫蠟設(shè)備廠加工工藝流程
酮苯脫蠟設(shè)備廠工藝以生產(chǎn)潤(rùn)滑油基礎(chǔ)油為主，副產(chǎn)品為粗石蠟，該工藝1931年開(kāi)始工業(yè)應(yīng)用，是用溶劑稀釋的冷凍過(guò)濾法，脫除重柴油(常三線、減一線油)餾分中的石蠟，以降低重柴油凝點(diǎn)，并取得制取石蠟的原料，同時(shí)也是脫除重質(zhì)潤(rùn)滑油中的蠟分，以及取得生產(chǎn)高熔點(diǎn)石蠟及地蠟所用的方法。由于重質(zhì)潤(rùn)滑油的低溫度鉆度太大，并含有地蠟，用冷榨或離心法脫蠟均難于實(shí)現(xiàn)，影響石蠟結(jié)晶的生成，并造成油蠟分離困難，溶劑脫蠟設(shè)備廠采用溶劑稀釋冷凍過(guò)濾法，一般都要采用丙酮、丁酮、苯、甲 苯、丙烷、二氯乙烷等作為溶劑，其中較為廣泛應(yīng)用的技術(shù)為酮苯脫蠟設(shè)備廠工藝，溶劑由丁酮、甲 苯按一定比例混合組成，工藝由開(kāi)始時(shí)的一段過(guò)濾、二效蒸發(fā)逐漸改為兩段過(guò)濾，三效蒸發(fā)。1980年采用惰性氣汽提，但因安 全問(wèn)題，僅在國(guó)外少量裝置上取得應(yīng)用。
目前脫蠟方式可以分為物理脫蠟和化學(xué)脫蠟兩種，酮苯脫蠟設(shè)備廠是典型的物理方式脫蠟，將原料降溫，蠟結(jié)晶析出，利用過(guò)濾加以分離。此外，還有尿素脫蠟、分子篩脫蠟等，化學(xué)方式脫蠟則是利用臨氫技術(shù)將原料中的高凝點(diǎn)組分轉(zhuǎn)化為低凝點(diǎn)組分，達(dá)到脫蠟的目的，臨氫技術(shù)多用于潤(rùn)滑油生產(chǎn)，如加氫異構(gòu)脫蠟、臨氫催化脫蠟等。在諸多工藝中，由于酮苯脫蠟設(shè)備廠原料適應(yīng)性強(qiáng)，加工流程簡(jiǎn)單，加工費(fèi)用低，較其它工藝相比，酮苯脫蠟設(shè)備廠應(yīng)用較為廣泛。
但酮苯脫蠟設(shè)備廠設(shè)備數(shù)量多、維護(hù)工作量大，也有一些缺點(diǎn)。直到目前，酮苯脫蠟設(shè)備廠裝置溶劑主要使用的是甲乙酮和甲 苯的混合溶劑，酮苯脫蠟設(shè)備廠中使用酮苯類溶劑的裝置一般稱為酮苯脫蠟設(shè)備廠。
{二}、原料的影響
1.原料組分
溶劑脫蠟設(shè)備原料來(lái)源主要是餾分潤(rùn)原，其中理想組分包括液態(tài)烷烴和帶側(cè)鏈環(huán)烷烴、芳香烴等；非理想組分包括膠質(zhì)、多環(huán)短側(cè)鏈芳香烴、原油降凝劑、環(huán)烷酸、含硫(或氮、或氧)化合物等。正序工藝時(shí)，潤(rùn)滑油溶劑脫蠟設(shè)備裝置原料經(jīng)過(guò)溶劑精制抽提，去除了非理想組分；反序工藝時(shí)，溶劑脫蠟設(shè)備原料含有非理想組分。
2.正反序原料對(duì)結(jié)晶影響
根據(jù)資料論述：原料油中含膠質(zhì)較多時(shí)，會(huì)阻礙蠟晶連接成大顆粒晶體，只能生成微粒晶體，易堵塞濾布，降低過(guò)濾速度，使蠟的含油量偏大。但若含有少量的膠質(zhì)或降凝劑、助濾劑等表面活性物質(zhì)時(shí)，可有助于形成較大粒度的樹(shù)枝狀晶形的蠟晶，有利于油、蠟分離。例如：某殘?jiān)土咸嵊嘤湍z質(zhì)含量在0.5%~2%之間才能得到滿意的結(jié)晶狀態(tài)。正序原料不含膠質(zhì)，雖然蠟晶聚集生長(zhǎng)速度會(huì)下降，但結(jié)晶不受非理想組分影響，結(jié)晶及聚集過(guò)程很容易操控。如果要彌補(bǔ)膠質(zhì)缺少對(duì)結(jié)晶的負(fù)面影響，可適當(dāng)加入助濾劑。
東光縣天誠(chéng)機(jī)械廠(http://www.dgtczlj.com)從事石蠟成型機(jī)、溶劑脫蠟、全自動(dòng)石蠟成型機(jī)產(chǎn)品銷售國(guó)內(nèi)50多家大中型石油化工企業(yè)。多年來(lái)在石化機(jī)械方面具有較高的聲譽(yù)。熱忱歡迎各界朋友惠顧本廠，攜手合作！