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00級大理石平臺拋光打蠟的區(qū)別和環(huán)境有什么影響【一】、大理石工作臺拋光打蠟的區(qū)別
1、本質(zhì)區(qū)別：
1)大理石磨塊拋光是石材晶面處理的前奏或石材加工中必要的一道工藝流程。其主要原理是利用由無機酸等物質(zhì)合成的壓制磨塊配合機械磨盤的壓力、高速磨削力、摩擦熱能，水的作用在比較光滑的大理石表面進行物理、化學化合作用，從而形成新的光亮晶體層。此晶體層具有超亮的、清晰的光度，光度可達90-100度。此晶體層是石材表層（1-2mm厚）的改性化合晶體層。
2)大理石清洗是大理石打蠟拋光的前奏，大理石清洗打蠟拋光是屬于80--90年代初期比較流行的大理石清潔保養(yǎng)保護措施，如今已經(jīng)失去市場和存在的意義。它的本質(zhì)是在新鋪石材（拋光板）面上覆蓋的一種丙烯酸樹脂與乳液的聚合物的薄薄涂層，就是我們常說的水蠟或地板蠟。再經(jīng)過高速、低壓力的拋光機配合纖維墊在石材表面摩擦，使樹脂涂層加光亮的一個過程。由于產(chǎn)品的新，后來又出現(xiàn)了特光蠟、免拋蠟等，此涂層就類似于木地板上油的清漆。
3)大理石工作臺護理晶面處理前的磨塊拋光工藝是石材表層與化學物的物理和化合作用過程。石材表層與底層完全化合成一個整體，不存在脫離層。
4)大理石打蠟拋光上面的蠟層是附著于石材表面的，一層樹脂膜，與石材本身不存在化合反應(yīng)。此蠟?zāi)涌捎玫镀p輕一鏟，可以將蠟?zāi)は麟x于石材表面。
2、表象區(qū)別：
1)大理石磨塊拋光是石材理護理晶面處理的前奏，石材護理拋光后光度高、清晰度高，耐磨、耐踩，不易刮花，是石材使用功能的真實體現(xiàn)和價值延伸。
2)打蠟拋光后的光度低，光度不清晰、而且很模糊，不耐磨、不耐水，易刮花變黃使石材本質(zhì)形象降低。
【二】、環(huán)境對大理石平板有什么影響
大理石平板是一種量具，在研磨和使用的過程都對于環(huán)境都是有一定的要求的。如果環(huán)境發(fā)生改變后對其是有一定的影響的。檢測型大理石平板在研磨加工和用來檢測工件的時候?qū)ζ渌幍沫h(huán)境內(nèi)的溫度是有著嚴格要求的。當大理石量具廠家加工一件大理石平板或者其它花崗石量具的時候，在粗加工的時候?qū)τ诃h(huán)境是沒有什么要求的，而在精細研磨的時候需要在一個恒溫恒濕的房間內(nèi)才可以進行精細研磨和檢驗。
而在超精密機械加工和檢驗的全過程中，也要在一個空調(diào)房間內(nèi)，而且新運進房間內(nèi)的大理石平板，不能馬上當做基準平臺來檢驗工件，要在房間內(nèi)恒溫一段時間后才可以進行校準使用。
除了溫度會對加工和使用大理石平板造成影響，當所處的環(huán)境內(nèi)有振動也是不可以的。大理石平板廠家檢驗一件大理石平板時候使用的都是高精密的電子水平儀，稍微有點振動都會造成誤差。而做為超精密的檢驗工作的基準平臺在使用的環(huán)境內(nèi)也是不應(yīng)該允許出現(xiàn)振動的現(xiàn)象的。
由此可見對于一件平面度非常高的大理石平板不論是大理石平板廠家在加工過程中，還是使用平面度檢驗工件的全過程中，都要在一個恒溫并且沒有振動的房間內(nèi)進行精細研磨，研磨完成后和不使用的的檢驗平臺在存放的全過程中也是盡量放置在大陽爆曬的室外，其次也應(yīng)遠離火源。
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